2026年のOptica Laser Congress and Exhibitionは，リトアニアのビリニュスで開催された。リトアニアでは約30年前から，レーザおよび光学関連企業を中心とした産業クラスターが形成されており，現在では世界的にも高い技術力を有している。本会議では，レーザ加工および応用分野における主な技術動向として，「微細加工」，「次世代EUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外）光源」，「高出力光源」の3つが挙げられた。これらはいずれも，AI（Artificial Intelligence：人工知能），先端半導体，将来のエネルギー需要の拡大によって強く牽引されている。特に，先端パッケージ向けマイクロビア加工やガラス基板加工では，超短パルスレーザおよびバースト照射技術への関心が非常に高かった。また，EUVリソグラフィ分野では，既存のレーザ生成プラズマ（LPP：Laser-Produced Plasma）光源の高出力化に加え，自由電子レーザ（FEL：Free-Electron Laser）を用いた新たな光源方式も注目を集めていた。さらに，光源性能の向上だけでなく，製造プロセス全体の生産性やサプライチェーンにまで議論が広がっていたことが，本会議の特徴として印象に残った。