フォトニックデバイス・応用技術研究会は、フォトニクスデバイス、並びにその応用技術の現状および動向・展望を話し合い、産官学会員相互の情報交換と討論を通じて光産業における本分野技術の育成と振興を図ることを目的に、1986年に「OEIC懇親会」の名称で設立され、現在まで皆様方のご好評を得て継続しております。 当研究会は上智大学 下村 和彦 教授を代表とする１３人の幹事により運営されており、会員の皆様のご要望に沿った技術テーマで企画され、各方面から講師の方々をお招きして例年５回の定例研究会（半日）と、１回のワークショップ（全日）を開催しております。定例研究会では３件程度の講演と国際会議報告等を行い、ワークショップは会員以外の方にも一般公開し、６，７件の講演を行っております。
開催情報・報告
※ WS：ワークショップ
| 会場 | 古河電気工業 東京本社 |
|---|---|
| 時間 | 13:00～18:00 |
| テーマ | 新しい光技術1 |
| 申込フォーム | 申込フォーム |
| 詳細情報 |
〇参加申込締切：【7月10日(金)】迄 プログラム ★★★ 会場入場方法につきましては、開催日の3営業日前までに通知いたします ★★★ |
| 会場 | NTT厚木 研究開発センタ |
|---|---|
| 時間 | 13:00～18:00 |
| テーマ | シリコンフォトニクス・異種材料集積技術 |
| 会場 | 産総研 臨海副都心センター |
|---|---|
| 時間 | 9:30～19:00 |
| テーマ | （未定） |
| 会場 | 住友電気工業 東京本社 |
|---|---|
| 時間 | 13:30～18:30 |
| テーマ | 光伝送路（パッシブデバイス・光ファイバ全般） |
| 会場 | 上智大学 四谷キャンパス |
|---|---|
| 時間 | 13:00～18:00 |
| テーマ | 新しい光技術2 |
会費
| 年会費 | 36,000 円/人（年度途中入会割引あり） |
|---|---|
| 定例会参加 | 一般の方(賛助会員含む) 18,000円/人/回 研究会会員の所属企業・団体でご紹介の方 8,000円/人/回 大学関係者、学生の方 1,500円/人/回 |
| ワークショップ参加 | 8,000円/人 |
インフォメーション
会員の特典
- 年５回の定例研究会並びに年１回のワークショップに参加いただけます。
- 各講演資料は、会員限定で研究会の後、本ＨＰからダウンロード可能ですので欠席された会員も資料を入手できます
- 一般公開セミナーであるワークショップに於いて、会員の方は優先して参加していただけます。（定員の関係で、会員以外の方には参加をお断りする場合があります）
- 現地参加のご都合がつかない場合には、会員限定のリモート配信サービスにて講演を聴講いただけます。
- 会員向けに新製品・新技術の紹介をしたい場合、事前に申し出て頂ければ、別途時間を設定いたします。
- 毎回、アンケートをとり、皆様のご意見をできるかぎり運営に反映させてまいります。
例えば、「○○氏の講演を是非聞きたい。」などのご要望を実現できるように努力してまいります。 - 毎回、約１ヶ月前に開催内容についてメールにてご案内いたします。
- 入会申込・お問い合わせはこちらのWebフォームから、または、上部の入会申込フォームをダウンロード･ご記入いただき、メール返信をお願いします。
過去年度の実績
問合せ先
一般財団法人 光産業技術振興協会 開発部
フォトニックデバイス・応用技術研究会 事務局 瀬戸山 徹
〒162-0801 東京都新宿区山吹町346-6 KAGURAZAKA VIGAS 2階
TEL：03-5225-6431 e-mail：pdevice@oitda.or.jp